• 搶先臺積電一步!三星全球首款3納米芯片出廠

    搶先臺積電一步!三星全球首款3納米芯片出廠

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    7月25日，三星電子在京畿道華城廠區內的極紫外光刻（EUV）專用V1生產線舉行了適用新一代全環繞柵極（GAA）技術的3納米芯片產品出廠紀念活動。三星電子上月底宣布全球首款基于GAA技術的3納米工藝半導體產品投入量產。

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